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電解電容是電容的一種，金屬箔為正極（鋁或鉭），與正極緊貼金屬的氧化膜（氧化鋁或五氧化二鉭）是電介質(zhì)，陰極由導電材料、電解質(zhì)（電解質(zhì)可以是液體或固體）和其他材料共同組成，因電解質(zhì)是陰極的主要部分，電解電容因此而得名。同時電解電容正負不可接錯。
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除了已經(jīng)實現(xiàn)生產(chǎn)機械化和自動化以外，鋁電解電容器在工藝上的進展主要是腐蝕和賦能兩個工藝。鋁箔的腐蝕系數(shù)不但已經(jīng)很高(低壓電容器箔已達100，高壓者達25)，而且可以根據(jù)對電容器的性能要求，腐蝕出不同坑洞形貌的鋁箔。腐蝕工藝是一種腐蝕液種類、濃度、溫度、原箔成分、結構、表面狀態(tài)、腐蝕過程中箔速度以及電源類型、波形、頻率、電壓等的動態(tài)平衡工藝。問題是如何得出最佳的動態(tài)平衡和如何根據(jù)要求確定出最佳平衡。因此，對腐蝕工藝還不能說已經(jīng)達到了最佳狀態(tài)。
現(xiàn)在的賦能工藝已經(jīng)可以制造出優(yōu)質(zhì)的介質(zhì)氧化膜，而且還可以根據(jù)要求不同，制造出不同的介質(zhì)氧化膜，例如，對直流電容器，制造出γ和γ’型結晶氧化鋁膜，對交流電容器，則為非晶膜。賦能工藝最大的進展是能將氫氧化鋁膜轉變成介質(zhì)氧化鋁膜、并能在其表面形成防水層。此外，還能消除介質(zhì)膜的疵點和龜裂。
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